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第161章第一台光刻机（第1页）

第161章第一台光刻机第161章第一台光刻机

半导体产业链的投入将会是非常庞大的，虽然徐申学不考虑，也不可能所有事情都自己做，但是光是牵个头，做一做光刻机，蚀刻机，离子注入机这些半导体整合设备的花费就不是个小数目。

至于真正的大后期，那可能就是涉及到整个工业底层体系的庞大命题……徐申学肯定是要让智云科技这个主要经营实体，然后再拉上一大堆国内相关企业、机构一起做的。

毕竟这种事就不是一个人，乃至一个企业能够单独搞定的。

而现阶段徐申学要做的是？智云科技要做的是什么？说起来其实也很简单，徐申学想要先开个头，打个样……比如说先利用国内比较成熟的技术基础，把duv干式光刻机给弄出来。

这个过程里利用智云科技的庞大的资金以及产业链事业，先把这个duv干式光刻机进行产业化，继而带动半导体制造设备以及原料的一系列产业链。

简单来说就是把光刻机领域先产业化，产生实际的经济效益，进而带动一整个产业链的持续进步。

整个模式，其实和做智能手机，然后带动整个智能手机产业链，本质上其实差不多……

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当下的duv干式光刻机还是很有市场的，因为这种光刻机主要用于65-130纳米的超大规模集成电路或者说芯片制造，而当下一大堆二流手机的芯片都还在采用六十五纳米工艺呢，比如s9手机采用的msm8x50芯片，其实就是六十五纳米工艺……

8x50芯片的性能在当下，依旧是足以进入前五。

而六十五纳米的支撑，是可以使用duv干式光刻机制造的再往下的各种内存以及其他类型的芯片，也是使用六十五纳米到一百三十纳米之间的工艺制造的。

这种级别的制程工艺，别说在当下了，就算是到了十几年后，依旧有相当大一部分市场。

这意味着duv干式光刻机在十几年后依旧有市场……海湾科技搞duv干式光刻机，市场前景还是有不小的。

海湾科技也不仅仅有比较先进的duv干式光刻机项目，其实也有看似更落后，用248纳米波长光源，最低制程可以做到一百三十纳米工艺的krf光刻机。

甚至连波长365纳米，最低制程只有三百五十纳米的i-line光刻机项目都有。

因为哪怕到了二十年代中期了，更低技术krf光刻机，甚至i-line光刻机依旧有着广泛的市场需求和价值！22年的荷兰asml光刻机出货上，最顶级的euv光刻机是四十台，arfi（duv浸润式）是八十一台，arf（duv干式）二十八台。

然后看似已经落后的第三代krf光刻机，出货量则是惊人的一百五十一台。

甚至第二代的i-line光刻机，出货量都有四十五台。

以上说的可是最顶级的光刻机厂商荷兰asml。

然后还有尼康，他们的arfi出货四台，arf四台，krf七台，i-line十五台。

然后是佳能，krf五十一台，i-line一百二十五台。

看似落后的第二代i-line光刻机以及第三代krf光刻机，到了二十年代出货量依旧非常大。

而且这说的是前道光刻机，不包括后道光刻机，后道光刻机的工艺制程普遍更低，出货量同样巨大。

为什么会这样？

因为抛开手机和电脑以及一些智能终端，其实普通设备所需的芯片，对制程要求没那么高。

广泛应用各行各业的微控制器、电力电子器件、电信电路、汽车电子以及许多其他器件，因为技术和成本的原因，基本上65-350nm就够用了，而且这部分低制程工艺生产的产品，占市场的60%以上！

俄罗斯在战争期间以倾国之力发展出来的三百五十纳米制程的光刻机，其实就是属于第二代的技术水平……而这已经足以维持其战争，基本社会工业运转的需求。

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当然，对于绝大部分行业而言，芯片工艺肯定越高越好，两三百纳米是勉强够用，但是六十五纳米更好用不是。